1. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: Central Library, Center of Documentation and Supply of Scientific Resources (East Azarbaijan)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
1994
2. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: Central Library and Information Center of the University of Mohaghegh Ardabili (Ardabil)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry, Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
3. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg.
موضوع : دینامیک پلاسما,لایههای نازک -- رویهها,Plasma etching,Plasma chemistry -- Industrial applications
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
4. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: Central Library and Documents Center of Mazandaran University (Mazandaran)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9
,
L54
2005
5. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: Central Library, Center of Documentation and Supply of Scientific Resources (East Azarbaijan)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
